韓國強化智慧財產權 保護(Ⅰ)
作者:劉志峰
韓國強化智慧財產權 保護(Ⅰ)
韓國智慧財產權法律於最近有一重大變革。 關於半導體積體電路佈局設計之新法案已頒佈,同時已修訂的不公平競爭防制法亦於 1992 年 12 月開始生效。修訂後之不公平競爭防制法包括營業秘密保護法此類新的條款。以下遂將上述所言於韓國智慧財產權方面之變革作一總括描述。
半導體積體電路保護法(“佈局設計法”) 已於 1992 年 12 月 8 日頒佈成為第 4526 號法律。此項佈局設計法已依法律自頒佈日起一年內由總統公告實施。保護將限於佈局設計所表現出“創造性”,亦即此設計係其設計者之智慧努力之結果。進一步而言,當佈局設計於整體而言係為有創意時,即便其係由一些習知普通元件所構成之組合,仍應受到保護。
於佈局設計法下,對於任一佈局設計欲具有法律上之權利,僅限於該佈局設計係一經註冊通過之佈局設計。佈局設計之註冊申請必須在於佈局設計之第一件商業使用日起二年內向貿易暨工業部提出。
外國人之佈局設計亦能經註冊而受到保護,韓國政府可以限制保護那些並無互惠條款之外國人之佈局設計。佈局設計之已註冊人具有對於該佈局設計用於商業目的以及准許獨佔或非獨佔授權之專有權力。使用係被定義為不僅包括佈局設計本身之再複製,亦涵蓋根據於佈局設計而製造之半導體積體電路,或者設計佈局根據該佈局設計而製造之半導體積體電路或結合該半導體積體電路之一項物品之轉移、租賃、展示(限於謀求形成轉移或租賃之展示)或進口。
此外,佈局設計權人亦具有可讓渡或質押關於他的佈局設計之權利。