103年9月號 道 法 法 訊 (269)

DEEP & FAR

變遷至美國發明法案(七)

核准後複審是一項有點類似歐洲專利局中的異議之新的程序。在領證後九個月內，請求者可以根據任何可以作為在訴訟中抗辯之理由來質疑一申請專利範圍。這包括AIA 35 U.S.C. § 112減去最佳態樣的要求(下文討論)。一個新的涵蓋商業方法專利之過渡期方案非常類似核准後複審，但是具有對可用先前技術之限制。沒有九個月的期限，但它僅適用於某些商業方法專利。此外，該方案只運作至2020年9月16日。

AIA以一新的雙方複審程序取代雙方再審查程序。雙方複審被設計成與專利訴訟的流程，而比雙方再審查程序更緊密相關。雙方複審程序必須在被通知被控侵權一年內提出請求，並且自動中止任何隨後提起的民事訴訟。

補充審查係一個新的AIA程序，其允許專利權人以比正常單方複審範圍就更廣的問題請求複審(其本身從CREATE到AIA大致維持不變)。藉由補充審查，專利權人可以對於引起可專利性之實質新問題(“SNQ”)之資訊請求單方複審。這係相對比於正常單方複審，其允許專利權人或者第三人僅基於為先前技術並且引起SNQ的專利或印刷出版物請求複審。

補充審查至少部分被設計為允許專利權人恢復在申請期間，因法律錯誤而玷污的已公告專利的價值。這一規定解決了對因為不正行為而在訴訟中，使專利無效所生長期以來的關注，而獨立於任何申請專利範圍的可專利性。為了解決這個問題，AIA規定提交補充審查請求，通常基於隨該請求而提交的資訊之認定排除無法執行。

                                                                      (待續)